气体 [ 回到半导体 ]

在半导体等电子工业中，作为您称职的合作伙伴，液化空气根据您对纯度的需求，通过多种供应模式，为每一步生产工艺提供所需求的载气(H₂, N₂,O₂, Ar, He...) 以及电子特种气体(SiH₄, NH₃, SiF₄...) 。

Page : / 3

氨气

应用：晶圆清洗、在CVD过程中生成氮化硅薄膜
容器：47L,50L,440L,930L

三氯化硼

应用：等离子刻蚀、在离子植入中用作硼源（N掺杂）
容器：47L

二氧化碳

应用：CVD、改变去离子水的导电性
容器：40L,44L

一氧化碳

应用：和八氟环丁烷（C₄F₈）一起用于等离子刻蚀
容器：47L,49L

氯气

应用：等离子刻蚀、硅的氧化
容器：44L,47L,440L

三氟化氯

应用：扩散炉炉室清洗
容器：40L

压缩空气

应用：控制气体

乙硼烷

应用：在离子植入中用作硼源（P掺杂）、用于外延生长
容器：气瓶

氯代硅烷

应用：在CVD过程中生成二氧化硅和氮化硅薄膜、用来生成硅
容器：40L

氟代甲烷

应用：刻蚀气体 / 等离子刻蚀
容器：7L

Page : / 3

请联系我们！